APS-100超聲法粒度儀在ZnO納米顆粒和ZnO-EG納米流體方面的應(yīng)用
APS-100超聲法粒度儀在ZnO納米顆粒和ZnO-EG納米流體方面的應(yīng)用金屬氧化物納米結(jié)構(gòu)因其在太陽能電池、電致發(fā)光器件、電致變色窗口和化學(xué)傳感器等許多技術(shù)中的潛在應(yīng)用而引起人們的廣泛關(guān)注。此外,聲音通過隨機(jī)介質(zhì)傳播也成為人們關(guān)注的課題,這些介質(zhì)包括膠體懸浮液、多孔材料、磁流變介質(zhì)和納米流體,其中納米流體由于其在不同領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用而引起了人們的極大興趣。有研究者對ZnO納米顆粒和ZnO-EG、ZnO-water納米流體進(jìn)行了研究。研究過程中分別采用了XRD、SEM、TEM對...原液Zeta電位分析儀用于CMP過程中顆粒電荷對材料去除率影響的檢測
原液高濃度Zeta電位分析儀用于化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)過程中顆粒電荷對材料去除率影響的檢測在宏觀尺度長度下,拋光過程中的材料去除率(dh/dt)被普雷斯頓方程描述為:dh/dt=kpσoVr,其中kp是普雷斯頓系數(shù),σo是施加的壓力,Vr是拋光顆粒相對于工件表面的平均速度。然而,光學(xué)拋光過程涉及工件、漿料和搭接之間在多個尺度長度上的一系列復(fù)雜的相互作用。因此,普雷斯頓系數(shù)代表了眾多拋光參數(shù)的集合,包括工件材料、漿料顆粒組成、漿料粒度分布(PSD)、漿料化學(xué)、焊盤形貌和焊盤機(jī)械...電話
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